图案模拟
图案模拟
KLA的图案化模拟系统采用先进的计算模型探索光刻和图案化技术方案，了解其设计的关键特征、可制造性以及限制良率的工艺。我们的图案化模拟软件能够帮助研究人员评估先进的图案化技术，例如EUV光刻和多重曝光图案化技术，模拟评估无需准备实验材料、工艺设备测试并曝光显影成型数百个测试晶圆，从而节省了时间和费用。
PROLITH™
仿真的虚拟图案化
PROLITH™ 光刻和图案化模拟解决方案使用创新的模型精确模拟一个设计在晶圆上实现的图案化情况。 PROLITH 在IC、LED和MEMS制造商，扫描仪公司，涂胶显影机公司，光罩制造商，材料供应商和研究联盟等企业中被广泛应用，用于经济高效地评估图案化技术，包括EUV光刻和多重图案化技术。作为一个适用于所有图案化工艺的至关重要的建模工具，PROLITH 可以帮助光刻工程师了解多重光刻工艺中的各个变量对于图案曝光显影成型的影响，并因此显著地缩短寻找解决方案的时间。
仅限用户 技术支持主要应用
先进图案化模拟，晶圆表面形态建模相关产品
PROLITH 2023a: 基于Windows系统的物理光刻模拟系统，具备输出确定和随机性结果的能力。PROLITH 2023a提供了对掩模形貌、晶圆形貌、光刻胶建模和SEM量测的严格运算处理，并能精 确定量给出结果。
PROLITH Enterprise 2023a: 包含PROLITH 2023a所有的核心功能，适用于Linux引擎进行大 型仿真工作，例如，“黑天鹅”事件的随机模拟，主要是针对对EUV光刻或须运行数千个掩模版片 段的任务进行。提供了一个可选的增强溶解模型，该模型可以准确描述NTD（负显影）化学放大 光刻胶的行为。