패터닝 시뮬레이션
패터닝 시뮬레이션
KLA의 패터닝 시뮬레이션 시스템은 중대한 기능 설계, 제조가능성 그리고 제안된 Litho과 패터닝 기술의 공정으로 제한된 수율을 탐구하기 위해 첨단 모델을 사용합니다. 연구원들은 실험 재료와 시제품 공정 설비를 사용한 수백장의 테스트 웨이퍼 인쇄에 필요한 시간과 비용을 할애할 필요 없이 KLA의 패터닝 시뮬레이션 소프트웨어를 통해 EUV Litho과 다수의 패터닝 기법 등의 첨단 패터닝 기술을 평가할 수 있습니다.
PROLITH™
현실적인 가상 패터닝
PROLITH™ Litho 및 패터닝 시뮬레이션 솔루션은 혁신적인 모델을 사용해서 웨이퍼에 인쇄하게 될 설계를 정확하게 시뮬레이션합니다. PROLITH 는 EUV Litho과 다수의 패터닝 기법을 포함하는 패터닝 기술을 비용 효율적으로 평가하기 위해 IC, LED 및 MEMS 제조업체, 스캐너 회사, 트랙회사, 마스크 제조업체, 소재 제공업체 및 연구 컨소시엄에서 사용됩니다. 모든 패터닝 공정에 필수적으로 중요한 모델링 툴로써, Litho 엔지니어들은 PROLITH 를 활용하여 다수의 Litho 변수가 패턴 인쇄에 미치는 영향을 이해함과 동시에 실현가능한 솔루션을 파악하는데 필요한 시간을 상당히 줄일 수 있습니다.
사용자용 사이트 기술 지원애플리케이션
첨단 패터닝 시뮬레이션, 웨이퍼 형상 모델링관련제품
PROLITH 2023a: 결정론적 그리고 확률론적 결과물이 가능한 윈도우 운영체제 기반 물리적 사진식각 시뮬레이터. PROLITH 2023a는 정량적으로 정확한 결과물을 위하여 마스크 지형, 웨이퍼 지형, 감광재 모델링, SEM 계측을 엄격하게 처리합니다.
PROLITH Enterprise 2023a: 핵심적인 PROLITH 2023a의 모든 기능을 제공하고, 추가적으로 대규모 시뮬레이션 작업(예: EUV 사진식각의 “검정 백조(black swan)” 현상이나 수천 회의 마스크 조각 이미지 실행을 요구하는 과제에 대한 확률론적 시뮬레이션)에 적합한 확장 가능한 리눅스 엔진을 제공. 음화 사진 현상 (Negative Tone Development, NTD) 화학 증폭 감광재의 거동을 정확하게 설명하는 향상된 용해 (enhanced dissolution) 모델을 선택할 수 있습니다.